R?G-25 高效硬鉻電鍍工藝

產品介紹

1. 不含氟化物，不會侵蝕工件的低電流區。

2. 沉積速度極高，是一般傳統硬鉻工藝的2-3 倍。

3. 陰極電流效率最高可達25%，可使用電流密度高達65A/dm2以上。

4. 鍍層硬度達1000-1100KHN100。

5. 鍍層微裂紋數可達400-800條/cm，防腐蝕能力強。

6. 鍍層均勻平滑，細致光亮。

7. 不會強烈侵蝕鉛錫陽極，無需使用特殊的陽極材料。工藝穩定性好，操作、維護成本低。

工藝參數

鉻酐                                  200-275 g/L  

純硫酸                                2.0-4.0 g/L

R?G-25 添加劑                      10-30ml/L

溫度                                    50-60℃

陰極電流密度                        30-70A/ dm2

陽極電流密度                        15-35A/ dm2